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產品展示
ZZS系列箱式真空鍍膜機
  • 用途及特點
  • 規格參數
    簡 介
     
    成都南光機器有限公司ZZS系列箱式真空鍍膜機,經過四十多年的發展,形成了真空鍍膜室尺寸從350毫米到3600毫米的箱式真空鍍膜機系列產品。廣泛應用于企業、科研院所、大專院校的科研和量產化生產領域,是鍍制多層光學薄膜、電學薄膜的理想設備。
     
    產品特點

    ●采用箱式結構,真空系統后置,便于操作和維修;整機表面平整,方便清潔,特別適合放置在凈化間內做穿墻式安裝。

    ●設備真空系統抽速大,具有抽氣時間短,真空度高,生產周期短等優點。

    ●采用管狀加熱器上烘烤,烘烤溫度均勻,壽命長,可達到******烘烤溫度350℃,烘烤均勻性270℃±10℃。

    ●工件轉動采用上部中心驅動,軸承帶水冷,磁流體密封,轉動平穩可靠。

    ●采用石英晶體膜厚控制儀,可實現鍍膜過程的自動控制。

    ●采用先進的鍍膜控制系統,人機操作界面美觀實用,系統穩定可靠,可實現系統的手動、半自動和全自動操作。
     
    適用范圍
     
    ●用于生產IR-CUT濾光片、分色濾光片、高反射膜、AR膜、長波通、短波通和多種電學薄膜
     
    常用標準配置
     
    ●以下表格內容為我公司五種常用標準機型的配置及指標,多年來我公司先后開發了350、450、500、550、630、700、800、900、1100、1250、1300、1500、1800、2200、2500、3600尺寸系列的箱式真空鍍膜機。為滿足廣大用戶的不同需求,我公司可接受多種形式的真空鍍膜機的定制要求,包括對真空室體尺寸、真空系統配置、工件夾具系統、工件烘烤系統、膜厚監控系統、蒸發源系統、充氣系統、離子源系統以及電氣控制系統的特殊定制。
    ZZS系列箱式真空鍍膜機
    Series ZZS Box-type Vacuum Coating Machine
     
    常用標準配置表
    Standard configurations for common use
    型  號
    Model
    ZZS600 ZZS700 ZZS800 ZZS900 ZZS1100 ZZS1300 ZZS1800
    真空室尺寸(直徑×高)
    Size of the vacuum chamber (diameter× height)
    Φ600×750 Φ710×850 Φ800×900 Φ900×1000 Φ1100×1300 Φ1300×1300 Φ1800×2000
    極限真空度
    Ultimate vacuum degree
    ≤3.0×10-4Pa
    恢復真空時間
    Time for vacuum recovery
    4.0×10-3Pa≤15min
    抽氣系統
    Pumping system
    擴散泵 Diffusion pump K-400 TK-500
     K-600 
    K-630 TK-500×2 K-630×2 K-800×2
    羅茨泵 Roots pump       ZJP-150 ZJP-300 ZJP-300 ZJP-1200
    機械泵 Mechanical pump 2X-30 2X-70 2X-70 2X-70 2X-70 2X-70 2X-70,H-150×2
    真空測量系統
    Vacuum measuring system
    配三路數字復合真空計,兩路低真空,一路高真空
    Three-way digital compound vacuum gauge, two ways of low vacuum and one of high vacuum
    操作方式
    Operation mode
    手動/自動
    Manual/automatic
    工件夾具
    Work piece holder
    Φ600 Φ640 Φ750 Φ840 Φ1040 Φ1240 Φ1720
    工件烘烤系統
    Work piece baking system
    上烘烤,鎧裝管狀加熱器加熱,******溫度350℃,PID自動控溫及顯示
    Up baking; heated by sheathed tubular heating element; maximum temperature 350℃; PID automatic temperature control and display.
    蒸發源
    Evaporation source
     
    電阻蒸發源
    Resistance evaporation source
    電阻蒸發源功率4KW(8V、600A)
    Power of the resistance evaporation source: 4KW (8V, 600A)
    電子束蒸發源
    Electron beam evaporation source
     
    E型電子束蒸發源,功率6~10KW
    Power of E-type electron beam evaporation source: 6-10KW
    膜厚監控系統
    Monitoring system on depth of films
    光學膜厚監控,波長范圍380-800nm,9透反射光路,六位電動比較片帶顯示;石英晶體膜厚監控,美國SQC-310、IC/6
    The optical film thickness monitor, a wavelength range of 380-800nm, 9transflective optical path, six electric comparison sheet with display; quartz crystal thickness monitoring, the United States SQC-310, IC / 6
    充氣系統 charge systems 自動壓強儀2~510-2Pa
    Automatic pressure instrument
    質量流量計:單路單顯,雙路雙顯
    Mass flow meter: one way one display, dual way dual display
    離子輔助(選配)
    Ion-assisted (optional)
    H6霍爾離子源、H10霍爾離子源、Φ12cm考夫曼離子源、Φ16cm考夫曼離子源
    H6 Hall ion source, H10 Hall ion source, Φ12cm Kaufman ion source, Φ16cm Kaufman ion source
    深冷捕集器(選配)
    Cryogenic trap (optional)
    國產12P、國產15P、進口POLYCOLD550、進口POLYCOLD670
    Domestic 12P, 15P, POLYCOLD 550, POLYCOLD 670
     
    動力需求
    Power demand
    冷卻水
    Cooling water
    壓力溫度
    Pressure and temperature
    壓力:0.25~0.35MPa;溫度≤25℃
    Pressure: 0.25-0.35MPa; temperature ≤25℃
    流量
    Flow rate
    ≥50L/min ≥60L/min ≥80L/min ≥100L/min ≥140L/min ≥160L/min ≥180L/min
    壓縮空氣
    Compressed air
    壓力:0.5~0.7MPa
    Pressure: 0.5-0.7MPa
    ******消耗電力
    Maximum power consumption
    ~25KW ~35KW ~40KW ~45KW ~50KW ~60KW ~120KW
    設備外形尺寸(寬×深×高)
    Overall dimension (width×depth×height)
    2100×1800×2000 3350×2600×2370 3580×3000×2450 3870×3600×2670 3870×3600×2670 3900×4050×2950 4400×4000×3600
    設備總重(KG)
    Gross weight (Kg)
     
    約1500
    About 1,500
    約2000
    About 2,000
    約2500
    About 2,500
    約3000
    About 3,000
    約3000
    About 3,000
    約4000
    About 4,000
    約6000
    About 4,000
     
     
     

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